本款蓝宝石抛光液以纳米二氧化硅为磨料，粒径均匀，分散稳定性好，沉降慢。适配蓝宝石衬底、光学窗口片、摄像头镜片、蓝宝石表镜等 CMP 化学机械抛光工艺，抛光后表面划痕少、粗糙度低，镜面光洁度高，易清洗，适配各类抛光机台，定制浓度与粒径，工厂直供。
